ليثيوم أيون Powerwall

عادةً، يتم تصنيع الخلايا الشمسية المصنوعة من السيليكون البلورية على -رقائق سيليكون عالية الجودة يبلغ سمكها 350-450 ميكرومتر، ويتم نشرها من سبائك السيليكون المسحوبة أو المصبوبة.

الأساليب المذكورة أعلاه تستهلك في الواقع المزيد من مادة السيليكون. للحفاظ على المواد، يعد ترسيب البخار الكيميائي (CVD) حاليًا الطريقة الأكثر شيوعًا المستخدمة لإنتاج خلايا رقيقة - من السيليكون متعدد البلورات، بما في ذلك ترسيب البخار الكيميائي المنخفض - (LPCVD) وترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما - (PECVD). يمكن أيضًا استخدام الطور السائل - (LPPE) والترسيب المتطاير لإنتاج خلايا رقيقة من السيليكون متعدد البلورات -.

يستخدم CVD بشكل أساسي SiH2Cl2 أو SiHCl3 أو SiCl4 أو SiH4 كغاز متفاعل. تحت جو وقائي، تتفاعل ذرات السيليكون لتكوين ذرات السيليكون، والتي تترسب بعد ذلك على ركيزة ساخنة. تشتمل مواد الركيزة عادةً على Si وSiO2 وSi3N4. ومع ذلك، أظهرت الأبحاث أن تكوين حبيبات كبيرة على ركائز غير{10}}السيليكون أمر صعب، كما أنه من السهل تكوين فجوات بين الحبيبات.

الحل لهذه المشكلة هو أولاً إيداع طبقة رقيقة من السيليكون غير المتبلور على ركيزة باستخدام LPCVD، ثم تصلب هذه الطبقة لإنتاج حبيبات أكبر. يتم بعد ذلك ترسيب أغشية رقيقة من السيليكون متعدد البلورات السميكة على بلورة البذور هذه. ولذلك، فإن تكنولوجيا إعادة البلورة هي بلا شك خطوة حاسمة. حاليًا، التقنيات الرئيسية المستخدمة هي بلورة الطور الصلب- وإعادة بلورة ذوبان المنطقة الوسطى-. بالإضافة إلى عملية إعادة البلورة، تستخدم خلايا السيليكون ذات الأغشية الرقيقة-المتعددة البلورات أيضًا جميع التقنيات المستخدمة تقريبًا لتصنيع الخلايا الشمسية المصنوعة من السيليكون البلوري-المفردة. وهذا يحسن بشكل كبير من كفاءة تحويل الخلايا الشمسية الناتجة.